aktuelle Dissertationen:

• Tito Sanetti:
  Sichtbarmachung von Defektstellen auf Halbleitermaterialien

• Hanan Idrisi:
  Dekoration und Ätzung von Defekten in Halbleitermaterialien

beendete Dissertationen:

• Christoph Angelkort:
  Bildung von Nitriden des Niobs und Tantals in dünnen Schichten durch thermische Kurzzeitprozesse 

• Antje Berendes:
  Untersuchung der Bildung von Übergangsmetallnitriden mit einer Thermowaage

• Marc Börner:
  Zur Beeinflussung der Oxidation von Silicium-(100)-Oberflächen durch die Kontamination mit dem 3d-Metall Kupfer 

• Oliver Brunkahl:
  Darstellung von Oxinitriden des Niobs und Tantals mittels Rapid Thermal Processing (RTP)

• Oliver Doll:
  Reinigungschemie von (Halbleiter-)Siliciumoberflächen: Aspekte des Einsatzes von Komplexbildnern und Charakterisierung von deren Stabilität in typischen Reinigungslösungen

• Ivan Galesic:
  Bildung von Vanadiumnitridschichten durch thermische Kurzzeitprozesse 

• Mathias Guder:
  „Photoresist stripping“ – Naßchemische Verfahren zur schonenden Entfernung von Photoresists im BEOL (back end of the line) Bereich

• Sabine Hohmann:
  Charakterisierung pharmazeutischer Substanzen mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse (TXRF)

• Isaak Ghirmay:
  Wechselwirkungsprozesse des 3d-Metalls Kupfer mit der Si(100)-Oberfläche

• Norbert Junghans:
  Integration ferroelektrischer Schichten in die Speichertechnologie

• Gernod Kilian:
  Untersuchung von Austauschprozessen von Metallen auf Silicium-Oberflächen mit Radiochemie und Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse (TXRF)

• Hartmut Lewalter:
  Untersuchung der durch thermische Kurzzeitprozesse gebildeten Nitride intermetallischer Phasen

• Martin Lommel:
  Präparation und Charakterisierung von Self-assembled monolayers (SAMs) auf Germanium-Oberflächen

• Katrin Luck:
  Untersuchung von Metallen auf Halbleiteroberflächen mit Oberflächenabbildungs- und Analysen-Methoden

• Jochen Mähliß:
  Development of Chromium(VI)-free Defect Etching Solutions for Application on Silicon Substrates (Introduction)

• Gerd Mainka:
  Untersuchung der Adsorption und Desorption von Uran-238 und Thorium-232 auf und von Silizium(100)-Oberflächen

• Olga Matylitskaya:
  Rapid Thermal Processing (RTP) für dünne Metallschichten (Nb, ...) auf Siliziumdioxid und Saphir 

• Martina Mertens:
  Bestimmung von Schwefel in biologisch-organischen Matrices mit Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse (TXRF): Möglichkeiten und Grenzen

• Regina Mertens:
  Präparation und Charakterisierung von Übergangsmetallnitriden und Boriden mittels Rapid Thermal Processing (RTP)

• Steffen Metz:
  Analytik von Kontaminationen auf Siliziumoberflächen, Möglichkeiten und Grenzen des VPD-Verfahrens

• Sven Metzger:
  Untersuchung des Verhaltens von Übergangsmetallen auf Si-Oberflächen mit oberflächenanalytischen Methoden

• Norman Münter:
  Präparation und Charakterisierung von Time Dependent Haze (TDH) auf Siliziumoberflächen

• Holger Ochs:
  Wechselwirkungsprozesse des Übergangsmetalls Zink mit der Silicium(100)-Oberfläche

• Daniel Possner:
  Entwicklung von Methoden zur Reinigung und Analytik von Si-, Si/Ge- und Ge-Oberflächen

• Patrick Rostam-Khani:
  Untersuchungen zu den Wechselwirkungen der Übergangsmetalle Cu, Ag, Au und Pt mit Silicium-(100)-Oberfläche mit oberflächenanalytischen Methoden

• Ralf-Jürgen Schirach:
  Studien zum Einsatz der Raster-Tunnel-Mikroskopie und der Lokalen-Tunnel-Spektroskopie zur Nanocharakterisierung von Oberflächenmorphologien sowie der physikalischen und chemischen Oberflächeneigenschaften unter Umgebungs-bedingungen

• Sonja Steinmeyer:
  Kalibrierungs- und Quantifizierungsprobleme bei der Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse (TXRF)

• Axel Wittershagen:
  Detektion von Spurenelementen in biologisch-organischen Makromolekülen mit Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse (TXRF)

• Shang-Ray Yang:
  Zusammengesetzte Self-assembled Monolayers (SAMs) auf Silizium-Oberflächen

geändert am 26. Januar 2011  E-Mail: Webmasterlommel@chemie.uni-frankfurt.de